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石墨烯的化学气相沉积法制备、光学表征与裁剪研究的中期报告
1. 引言
石墨烯是由碳原子构成的二维晶体材料,具有极好的电子、光学、力学和热学性能,被广泛应用于纳米电子器件、传感器、能源储存等领域。本报告介绍了化学气相沉积法制备石墨烯的过程、采用光学表征技术对其进行表征以及研究石墨烯的裁剪方法及其影响。
2. 实验方法
2.1 石墨烯的制备
本研究采用化学气相沉积法制备石墨烯。具体方法为:在负压气氛下,将超薄铜箔(99.99%纯度)放置于石墨炉内,升温到1000°C,通入甲烷气体,使其在铜箔表面沉积成石墨烯。然后将石墨烯与硅基底通过静电作用分离。
2.2 石墨烯的表征
采用透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)对石墨烯薄膜进行形貌表征;利用红外光谱(FTIR)、紫外光谱(UV-Vis)对石墨烯薄膜的光学性质进行表征;运用拉曼光谱仪对其晶体结构进行深度研究。
2.3 石墨烯的裁剪
采用在线电子束曝光技术对石墨烯进行裁剪,通过改变电子束的加速电压和电子束的聚焦位置,可实现对石墨烯薄膜的裁剪,进而研究裁剪对石墨烯性质的影响。
3. 实验结果与分析
3.1 石墨烯的制备
通过石墨炉加热甲烷气体,在铜箔表面制备出了石墨烯薄膜,经过TEM和SEM表征,得到了石墨烯的形貌和大小信息,如图1所示。
图1 石墨烯薄膜的TEM和SEM图像
3.2 石墨烯的表征
利用FTIR和UV-Vis对石墨烯的光学性质进行表征。FTIR谱图显示石墨烯薄膜的吸收峰在1620 cm-1处,是C=C键的伸缩振动,证明了石墨烯薄膜由碳原子构成。UV-Vis吸收谱显示的是石墨烯的宽带,证明了石墨烯的均匀性和透明性。此外,拉曼光谱表明石墨烯薄膜的G’(2681 cm-1)和2D(2703 cm-1)峰值强度很高。
3.3 石墨烯的裁剪
采用在线电子束曝光技术对石墨烯薄膜进行了裁剪。通过改变电子束的加速电压和电子束的聚焦位置,得到了不同尺寸的石墨烯薄膜。 SEM图像显示,石墨烯薄膜的切割边缘很平滑。
4. 结论
本研究成功地制备了石墨烯薄膜,并对其进行了光学表征。采用在线电子束曝光技术实现了对石墨烯的裁剪。本研究成果可为石墨烯薄膜在电子学和光电学领域的应用提供参考。
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