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本发明公开了一种SLS尼龙制件表面冷烧结工艺方法,以SLS尼龙制件、叔丁醇钾、二环己基‑18‑冠醚‑6、3‑(2,3‑环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、10%溶质质量分数的甲酸水溶液、氩气、四氢呋喃为原料,以内置有雾化颗粒度3μm‑5μm的雾化装置、低温脉冲等离子体发生装置、加热装置、立体气体搅拌装置的保护气氛电阻炉为生产设备,经历表面羟化、表面等离子活化、冷烧结三个步骤。本发明处理后的SLS尼龙制件具有断裂伸长率高、表面完整性好、无缺口冲击强度高、表面粗糙度好的特性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116987314 A
(43)申请公布日 2023.11.03
(21)申请号 202311012640.X B33Y 40/20 (2020.01)
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