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本发明适用于人造石抛光技术领域,提供了一种人造石抛光设备及其抛光工艺,包括工作单元和抛光单元;工作单元包括支撑架、设置于支撑架上的工作箱、设置于工作箱内的支撑板、设置于支撑板顶部的主旋转气缸、设置于主旋转气缸旋转端的旋转板、轴向方向对称设置于旋转板远离主旋转气缸侧壁上的次旋转气缸,以及设置于次旋转气缸旋转端的工位件;抛光单元包括基座、设置于基座顶部的机械手臂、设置于机械手臂执行端的连接柱、设置于连接柱远离机械手臂一端的支架、以及设置于支架两端的打磨件,通过工作单元和抛光单元的相互配合,完成打磨时
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116985017 A
(43)申请公布日 2023.11.03
(21)申请号 202310826152.6 B24B 47/14 (2006.01)
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