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纳秒脉冲激光的掩模微细刻蚀加工试验研究的中期报告 本试验旨在研究纳秒脉冲激光掩模微细刻蚀加工技术的可行性和实用性。经过前期的实验探索和优化，我们制定了一套完整的实验方案，并完成了部分实验。 在实验中，我们采用的激光设备为纳秒脉冲激光器，波长为355nm，脉宽为10ns，重复频率为10kHz。掩模选用的是高精度光刻技术制备的金属掩模，其特点是线宽和间距均在微米级别。 我们首先在硅片上进行了一系列的试验。通过改变激光的能量密度和扫描速度，我们观察到了不同的刻蚀效果。在一定的能量密度和扫描速度下，我们成功地在硅片上制备了精密的微米级图案，具有较高的光学和电学性能。 随后，我们将试验重点转移到了不同材料（包括金属、聚合物和玻璃）的掩模微细刻蚀加工上。我们设计和制备了一系列不同的掩模，并根据不同材料的特性，调整了激光参数和扫描策略。 目前，我们已经完成了部分材料的实验，初步观察到了较好的刻蚀效果。我们将继续进行更多的实验，并对实验数据进行详细分析和统计。同时，我们还将探索材料的表面形貌和结构变化，以及与材料性能的关系。