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本申请实施例公开了一种半导体激光器端面光学薄膜镀膜方法和半导体激光器,本申请实施例提供的光学薄膜镀膜方法,采用电子回旋共振溅镀机微波离子源对激光器的出光腔面和背光腔面进行清洗,能够有效去除腔面的氧化物残留,避免后续腔面出现杂质,会直接影响道激光芯片的可靠性和光学特性,采用电子回旋共振溅镀机通过射频溅射法对出光腔面覆盖第一三氧化二铝膜,对背光腔面覆盖第二三氧化二铝膜,使用该方法形成的形成的钝化膜该方法镀制温度低,沉积速率高,功率效率高,膜层致密性好,能够提升端面复合膜的稳定性,能够在一定程度上避免
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117004913 A
(43)申请公布日 2023.11.07
(21)申请号 202310766295.2 C23C 14/14 (2006.01)
(22)申请日 2023.06.
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