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本发明涉及一种双轴跟踪转台伺服系统改进自抗扰控制器，包括：改进跟踪微分器、改进扩张状态观测器及状态误差反馈控制律；改进跟踪微分器基于转台设定角位置θref经过安排过渡过程提取微分信号，获得角位置的估计信号v1和微分信号v2；扩张状态观测器的两个输出量分别为角位置估计z1和角速度估计z2，采用Elastoplastic摩擦模型描述伺服转台系统运行中存在的非线性摩擦扰动，并将其不可测部分作为新的状态量z3用以实时估计和补偿；分别将v1、v2与z1、z2作比较，获得角位置和角速度误差信号；最后基于误差
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113515147 A
(43)申请公布日 2021.10.19
(21)申请号 202110876409.X
(22)申请日 2021.07.29
(71)申请人 安徽大学
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