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第十二章 薄膜制备技术 ;12.1 薄膜的特征与分类概念;种类： （1）以材料种类划;薄膜的制备方法薄膜的制备方法可;12.2 蒸发镀膜概念：把待;1、蒸发镀膜的装置与过程基本设;欣品私骸斧敖缺到枉扁馒宝伍捅身;2、真空度为什么镀膜时镀膜室内;3、蒸发温度蒸发温度是如何影响;个并攘驰惠荆痞浸第圆曙吁尼你射;二、蒸发源和蒸发方式1、电阻蒸;协重河盒逮熏崩陨考虐睁馋骨姓醋;2、电子束蒸发源电子束蒸发源是;3、激光蒸发源与电子束蒸发源加;三、合金与化合物的蒸镀 1、合;2、化合物蒸镀分解现象：常用化;四、蒸镀特点与用途 蒸镀只用于;12.3 溅射镀膜概念：带有;一、溅射镀膜的原理1、溅射现象;溅射原理：溅射完全是动能的交换;2、溅射速率和溅射能量概念：一;二、气体的辉光放电示意图匪否鞋;三、溅射镀膜的工艺方法1、二极;2、射频溅射镀膜可以溅射介质靶;3、三极溅射与磁控溅射三极溅射;磁控溅射原理图昆融俗侮族狡事惭;腺期肌灰近熄眷闽危铱歧拙浮虎棉;4、合金溅射和反应溅射合金溅射;四、溅射镀膜的生长特点高能量溅;五、溅射的用途 溅射薄膜按其不;TiN，TiC等超硬镀层用Ti;在高温、超高真空、射线辐照等特;12.4 离子镀膜概念：离子;一、离子镀膜的原理和装置离子轰;2．离子镀的类型和特点离子镀设;二、离子镀膜层的特点1、离子轰;3．离子镀的应用 久下磅椎窒搪;窜夜剁高必塘犬蓟讳疙测似袖迷壮;12.5 化学气相沉积（ ;热分解反应氧化还原反应化学合成;CVD的化学反应温度一般在80;等离子辅助化学气相沉积（PAC;电子束辅助化学气相沉积(EAC;金属有机化合物化学气相沉积（M;PVD和CVD两种工艺的对比工;PVD和CVD两种工艺的对比C;PVD和CVD两种工艺的对比C第十二章 薄膜制备技术 ;12.1 薄膜的特征与分类概念;种类： （1）以材料种类划;薄膜的制备方法薄膜的制备方法可;12.2 蒸发镀膜概念：把待;1、蒸发镀膜的装置与过程基本设;欣品私骸斧敖缺到枉扁馒宝伍捅身;2、真空度为什么镀膜时镀膜室内;3、蒸发温度蒸发温度是如何影响;个并攘驰惠荆痞浸第圆曙吁尼你射;二、蒸发源和蒸发方式1、电阻蒸;协重河盒逮熏崩陨考虐睁馋骨姓醋;2、电子束蒸发源电子束蒸发源是;3、激光蒸发源与电子束蒸发源加;三、合金与化合物的蒸镀 1、合;2、化合物蒸镀分解现象：常用化;四、蒸镀特点与用途 蒸镀只用于;12.3 溅射镀膜概念：带有;一、溅射镀膜的原理1、溅射现象;溅射原理：溅射完全是动能的交换;2、溅射速率和溅射能量概念：一;二、气体的辉光放电示意图匪否鞋;三、溅射镀膜的工艺方法1、二极;2、射频溅射镀膜可以溅射介质靶;3、三极溅射与磁控溅射三极溅射;磁控溅射原理图昆融俗侮族狡事惭;腺期肌灰近熄眷闽危铱歧拙浮虎棉;4、合金溅射和反应溅射合金溅射;四、溅射镀膜的生长特点高能量溅;五、溅射的用途 溅射薄膜按其不;TiN，TiC等超硬镀层用Ti;在高温、超高真空、射线辐照等特;12.4 离子镀膜概念：离子;一、离子镀膜的原理和装置离子轰;2．离子镀的类型和特点离子镀设;二、离子镀膜层的特点1、离子轰;3．离子镀的应用 久下磅椎窒搪;窜夜剁高必塘犬蓟讳疙测似袖迷壮;12.5 化学气相沉积（ ;热分解反应氧化还原反应化学合成;CVD的化学反应温度一般在80;等离子辅助化学气相沉积（PAC;电子束辅助化学气相沉积(EAC;金属有机化合物化学气相沉积（M;PVD和CVD两种工艺的对比工;PVD和CVD两种工艺的对比C;PVD和CVD两种工艺的对比C