薄膜技术中PVD和CVD的区别详解演示文稿.pptVIP

LOGO 薄膜技术中PVD和CVD的区别详解演示文稿 本文档共24页；当前第1页；编辑于星期三\17点43分 优选薄膜技术中PVD和CVD的区别详解 本文档共24页；当前第2页；编辑于星期三\17点43分 薄膜制备工艺包括：薄膜制备方法的选择，基体材料的选择及表面处理，薄膜制备条件的选择和薄膜结构、性能与工艺参数的关系等。 本文档共24页；当前第3页；编辑于星期三\17点43分 物理气相沉积（PVD） 化学气相沉积 （ CVD） 薄膜制备 本文档共24页；当前第4页；编辑于星期三\17点43分 物理气相沉积（PVD） PVD 物理气相沉积（PVD)指的是利用某种物理的过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物理表面原子的溅射现象，实现物质从原物质到薄膜的可控的原子转移过程。 本文档共24页；当前第5页；编辑于星期三\17点43分 物理气相沉积（PVD） PVD 这种薄膜制备方法相对于下面还要介绍的化学气相沉积方法而言，具有以下几个特点: 1.需要使用固态的或者熔化态的物质作为沉积过程的源物质。 2.源物质要经过物理过程进入气相。 3.需要相对较低的气体压力环境。 4.在气相中及衬底表面并不发生化学反应。 本文档共24页；当前第6页；编辑于星期三\17点43分 物理气相沉积（PV