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本实用新型公开了一种掩膜版，涉及掩模版技术领域，其包括至少一个掩膜条，掩膜条包括有多个掩膜图形区和遮光无效区，至少有一个掩膜条的遮光无效区处设置有掩膜图形测试区，掩膜图形测试区的图案形状与掩膜图形区的图案形状一致；本实用新型通过在掩膜条的遮光无效区设置设置掩膜图形测试区，在基板制作时，在掩膜图形测试区处对应设置测试块，在基板蒸镀时，测试块跟随基板同时蒸镀，使得测试块的图案堆叠与产品基板的图案一致，在完成基板制作后，测试块上的图案同步完成，直接对测试块进行破坏性测试，避免了正常OK基板的破坏测试，
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 220012775 U
(45)授权公告日 2023.11.14
(21)申请号 202321049624.3
(22)申请日 2023.05.05
(73)专利权人 信利光电股份有限公司
地址 5
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