一种匀气盘、放电腔及离子源.pdfVIP

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2023-11-15 发布于四川
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一种匀气盘、放电腔及离子源.pdf

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本实用新型公开了一种匀气盘、放电腔及离子源，其中，匀气盘的顶面设置有至少一个隔断结构，隔断结构自匀气盘的中部延伸至匀气盘的外边沿，以使得匀气盘的整个顶面在工作过程中所形成的导电镀层为间断镀层。实际应用过程中，通将上述结构的匀气盘安装至离子源的放电腔内，由于匀气盘的顶面设置有至少一个隔断结构，并且该隔断结构自匀气盘的中部延伸至匀气盘的外边沿，因此，离子源工作过程中，即便匀气盘的顶面形成导电镀层，该隔断结构也能够将导电镀层分隔开来，使得导电镀层分隔成若干间断镀层，使得匀气盘的整个顶面不会连续导通，从

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 220021037 U (45)授权公告日 2023.11.14 (21)申请号 202321401091.0 (22)申请日 2023.06.02 (73)专利权人江苏鲁汶仪器股