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基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质.pdfVIP

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  • 2023-11-15 发布于四川
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基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质.pdf

    本发明提供一种技术，通过按基板处理的步骤设定符合处理条件的基板位置，能够使基板质量接近均匀。上述技术具有：支承部，其能够支承至少1个基板；控制部，其具有存储制程的存储部，该制程能够设定所述基板的支承位置，在所述制程中，所述控制部能够对所述支承部进行升降控制，使得所设定的所述支承位置为预先确定的基准位置。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117059514 A (43)申请公布日 2023.11.14 (21)申请号 202310251412.1 (22)申请日 2023.03.15 (30)优先权数据 2022-079683 202

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