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ICS??65.020.20
B?31
DB12
天 津 市 地 方 标 准
DB12/T?1010—2020
设施西瓜立体栽培技术规程
Code?of?establishment?watermelon?stereo?culture?technology
2020?-?12?-?17?发布 2021?-?01?-?16?实施
天津市市场监督管理委员会 发?布
DB12/T?1010—2020
前 言
本标准按照GB/T?1.1-2009给出的规则起草。
本标准由天津市农业农村委员会提出并归口。
本标准起草单位:天津市植物保护研究所、天津农学院。
本标准主要起草人:刘春艳、李树和、霍建飞、姚玉荣、郝永娟、刘晓琳、高苇、王勇、王万立。
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设施西瓜立体栽培技术规程
1 范围
本标准规定了设施西瓜立体栽培的产地环境、田间管理、病虫防治、采收管理措施。
本标准适用于天津地区日光温室、塑料大棚、连栋温室等设施西瓜立体栽培生产。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅所注日期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB?4285 农药安全使用标准
GB/T?8321(所有部分) 农药合理使用准则
GB?16715.1-2010 瓜菜作物种子?第1部分:瓜类
NY?5010 无公害食品蔬菜产地环境条件
NY?5110-2002 无公害食品西瓜产地环境条件
NY/T?5111 无公害食品西瓜生产技术规程
3 术语和定义
下列术语和定义适用于本标准。
3.1
立体栽培 stereoscopic?cultivation
在设施条件下,用竹竿等架材搭架、或钢丝、绳索等牵引瓜蔓上架,果实悬吊于棚架上的一种栽培
方式。
3.2
双蔓整枝 double?cross?training
在4片~5片叶时进行打顶,留一条主蔓和主蔓基部选留一条侧蔓,其余侧蔓全部摘除。
4 栽培技术
4.1 产前准备
4.1.1 施肥整地
施肥原则按照NY/T?5111执行。施肥后旋耕土壤2次,深25cm~30cm。定植前2周结合施用基肥起垄
作畦。
4.1.2 棚室环境消毒
1
茬口
育苗(月/旬)
定植(月/旬)
始收期(月/旬)
设施春茬
1?月中下旬
3?月中下旬
6?月上旬
设施秋茬
7?月上旬
8?上旬
10?月上旬
供提库七七下载可采用硫磺烟剂进行棚室环境消毒,硫磺药剂用量为每667m?用200g~250g,点燃密闭薰烟一昼夜,
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可采用硫磺烟剂进行棚室环境消毒,硫磺药剂用量为每667m?用200g~250g,点燃密闭薰烟一昼夜,
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经放风无味时再定植。
4.2 育苗
4.2.1 品种选择
选择设施专用品种,种子应符合GB?16715.1-2010中2级以上要求。
4.2.2 茬口选择
不同茬口选择见表1。
表1 茬口选择表
接穗每667m?用种
接穗每667m?用种100g~150g。砧木每667m?用种200g~300g.
营养土配制应在播种前10d准备好。选用无病虫的大田土,与腐熟有机肥、草炭等拌匀,过筛后使
用,比例宜为3:2:1。也可直接利用商品育苗基质。将营养土装入营养钵内。
4.2.4 用种量
2 2
4.2.5 种子处理
晒种
在种子播种前,应经过1d~2d日晒。
温汤浸种
用55℃温水浸种,边浸边搅拌种子30min左右,冷却后继续浸种?20h~24h。
药剂浸种
用福尔马林100倍液浸种?30min,或用?50%?多菌灵?500倍液浸种?1h,用清水冲洗干净后浸泡?20h。
作砧木的种子用温水浸泡12h。
4.2.6 催芽
将浸好的种子洗净,用棉布包好,放在25℃~30℃的条件下催芽。种子芽长0.3cm~0.5cm即可播种。
砧木在25℃~28℃的温度下催芽,芽长0.5cm时播种。
4.2.7 播种
将种子平放于营养钵内,每钵(穴)1粒。接穗用小穴孔育苗盘,砧木用大穴孔或营养钵育苗,播
后覆1cm的营养土或细沙保温保湿。
砧木比接穗早播5d左右。
2
过程
白天温度(℃)
夜间温度(℃)
播种至出苗
30℃~32℃
16℃~18℃
出苗后至嫁接
25℃~28℃
13℃~14℃
成活后至定植前
28℃~32℃
16℃~18℃
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4.2.8 嫁接栽培
采用插接或靠接方法进行嫁接,嫁接砧木为葫芦和南瓜。
4.2.9 苗期管理
苗期管理见表?2。
表2 苗期管理
定植前15d左右扣棚升温。结合整地6
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