用于生成半导体装置用膜的组合物以及各制造方法.pdfVIP

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2023-11-18 发布于四川
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用于生成半导体装置用膜的组合物以及各制造方法.pdf

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一种用于生成半导体装置用膜的组合物，其包含：化合物(A)，具有Si‑O键以及包含伯氮原子和仲氮原子中至少一者的阳离子性官能团；交联剂(B)，在分子内具有3个以上‑C(＝O)OX基(X为氢原子或碳数1以上6以下的烷基)，3个以上‑C(＝O)OX基中，1个以上6个以下为‑C(＝O)OH基，所述交联剂(B)的重均分子量为200以上600以下；添加剂(C)，所述添加剂(C)选自由具有羧基且重均分子量46以上195以下的酸(C‑1)和具有氮原子且重均分子量17以上120以下的碱(C‑2)组成的组中的至少一

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117070147 A (43)申请公布日 2023.11.17 (21)申请号 202311043410.X C09D 7/63 (2018.01) (22)申请日 2016.11.1