一种用于溅射用的异型银靶的制造方法.pdfVIP

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2023-11-18 发布于四川
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一种用于溅射用的异型银靶的制造方法.pdf

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本发明涉及金属材料加工方法技术领域，具体涉及一种用于溅射用的异型银靶的制造方法，包括以下操作步骤：将高纯阴极银原料经过水平连铸、连续挤压和分切得到截面光滑平整无氧化、晶粒为完全动态再结晶的异型银排。相较于现有技术，本发明制备的低氧异型银排截面光滑平整无氧化，无需再进行表面处理，可以直接进行后续加工，且该系统加工出的平排经过金相检测，其连续挤压后的横截面两边和中间的组织均匀、细小，无明显的宏观缺陷及铸造组织形态，晶粒全部是无畸变的等轴晶粒，无明显流线形走向，这说明在连续挤压过程中达到了完全动态再结

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117070903 A (43)申请公布日 2023.11.17 (21)申请号 202310959665.4 (22)申请日 2023.07.31 (71)申请人芜湖映日科技股份有限公司地址