扫描电子显微镜技术SEM.pptx

目录;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;4.2.1 电子束与样品的相互作用 ;入射电子束; 图11 反射电子示意图 ; 图12 二次电子示意图 ; 图13 透射电子示意图 ;4.2.2 电镜的基本类型 ;直接透射电子;（1）透射电镜 TEM 透射电镜图片类似于投影图，立体感较扫描电镜图差，对于样品厚度有严格要求，主要用于样品内部结构的分析。 ;（2）扫描电镜 SEM 通过反射电子或二次电子对样品表面进行分析的电镜技术，简称为扫描电镜 Scanning Electron Microscopy, SEM。 ;（2）扫描电镜 SEM 与透射电镜相比，扫描电镜图片具有更佳的立体感，主要应用于样品表面形貌、组成及结构的分析。 ;;反射电子;反射电子;;反射电子;反射电子;反射电子;反射电子;电子枪;4.3.3 成像电子信息的传递与放大;;4.3.4 同步扫描原理; 图28 同步扫描示意图（中速） ; 图29 同步扫描示意图（快速） ;;同步扫描原理： 由电子枪发射的高能电子束经磁透镜聚焦形成扫描电子束，通过扫描线圈的磁场控制使扫描电子束在样品表面按一定规律进行点扫描或光栅扫描，所产生的电子信息经传递放大转变成显像管内的成像电子束。;同步扫描原理： 由于扫描电子束和显像管内的成像电子束受控于同一扫描控制电路，利用磁透镜原理使两者在时间和空间上做到一一对应，从而实现同步扫描与成像过程。 ;4.3.5 扫描衬度原理;图32 电子束入射角与二次电子产率的关系 ;（1）表面形貌衬度： 当入射角固定，由于实际样品表面呈凹凸不平状，导致不同部位的实际入射角不同，使所产生的二次电子信息强度各异 ，最终使像点的明暗度不同。 ;（1）表面形貌衬度： 样品不同部位所产生的二次电子产率与其表面凹凸不平的几何状况有密切的关系，利用该原理通过二次电子成像可获得逼真的表面形貌图，该原理称为表面形貌衬度。 ;（2）原子序数衬度： 反射电子也称背散射电子，其强弱与样品表面的原子序数密切相关，一般原子序数越大，产率越高，反之越小。 ;（2）原子序数衬度： 对于含有不同组份的样品表面而言，通过抛光消除表??形貌衬度，利用不同原子序数产生背散射电子产率不同这一原理获得背散射扫描图像，可分析样品的表面组成。 ;4.3.6 扫描成像过程动态模拟 ;图36 心脏修补膜片（PTFE)扫描成像过程 ;图37 有序多孔氧化铝模板扫描成像过程 ;图38 纳米线的扫描成像过程 ;;二次电子;二次电子;二次电子;二次电子;二次电子;二次电子;二次电子;二次电子;二次电子;二次电子;二次电子;二次电子;;;;;;;;;;;;;;反射电子;反射电子;反射电子;反射电子;4.5.2 扫描电镜样品的类型 ;二次电子;二次电子;二次电子;;反射电子;反射电子;反射电子;二次电子;二次电子;;;;;;;;;;;;4.6.5 材料表面形态;4.6.6 材料断口形貌 ;4.6.7 材料磨损表面分析 ;;