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- 2023-11-22 发布于四川
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本发明公开了曝光装置和物品制造方法。提供了一种曝光装置,该曝光装置经由投影光学系统将原件的图案投影到基板上并对基板进行曝光。该装置包括被布置在原件和基板之间的曝光光的光路上的像差校正构件,以及驱动像差校正构件的驱动器。像差校正构件包括第一光学元件和第二光学元件,第一光学元件包括相对于曝光光的光轴具有三重旋转对称非球面形状的第一表面,第二光学元件沿着光轴与第一光学元件间隔开并且包括面对第一表面并且具有互补地校正由第一光学元件生成的像差的非球面形状的第二表面。驱动器执行第一光学元件和第二光学元件中的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111694225 A
(43)申请公布日 2020.09.22
(21)申请号 202010179074.1
(22)申请日 2020.03.12
(30)优先权数据
2019-0451
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