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一种高铜蚀刻液组合物及其使用方法和应用.pdfVIP

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  • 2023-11-22 发布于四川
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一种高铜蚀刻液组合物及其使用方法和应用.pdf

    本发明公开了一种高铜蚀刻液组合物，包括主剂和配合剂，主剂的制备原料以重量百分比计包括：过氧化氢1‑20％，无机酸0.01‑5％，羧酸聚合物A1‑15％，有机碱1‑15％，双氧水稳定剂0.01‑5％，金属缓蚀剂0.01‑1％，去离子水补充余量；所述配合剂的制备原料至少包括重量百分数为10‑40％的羧酸聚合物B。通过采用相对分子质量为1000‑100000g/mol的羧酸聚合物，可以与铜、钼等金属离子发生结合力较强的络合反应，阻止金属离子的释放，降低金属离子对过氧化氢分解速率的影响，在20000pp

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117089841 A (43)申请公布日 2023.11.21 (21)申请号 202310600503.1 (22)申请日 2023.05.25 (71)申请人 四川和晟达电子科技有限公司 地址

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