一种去除四环素的g-C3N4基纳米复合材料及其制备方法.pdfVIP

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2023-11-25 发布于四川
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一种去除四环素的g-C3N4基纳米复合材料及其制备方法.pdf

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本发明提供了一种去除四环素的g‑C3N4基纳米复合材料及其制备方法和应用，所述符合材料由如下方法制得：将硫源、铜源和g‑C3N4于溶剂中、60～70℃下反应1～6h，之后分离得到g‑C3N4基前驱体；干燥后，在空气氛围下于350～500℃恒温灼烧，即得。本发明的材料，可利用绿色分子氧作为氧化剂，通过高级氧化过程和吸附作用相结合，具有优异的催化性能和吸附效率、较高的选择性和稳定性。使用该复合材料，废水无需经过稀释处理可直接用于去除四环素。本发明制备简单、方便快捷并采用比较廉价、易得到的原料来合成，

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117101696 A (43)申请公布日 2023.11.24 (21)申请号 202310915507.9 C02F 1/28 (2023.01)