一种可实现间歇刻蚀的离子源装置.pdfVIP

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2023-11-25 发布于四川
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一种可实现间歇刻蚀的离子源装置.pdf

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一种可实现间歇刻蚀的离子源装置，包括放电室、离子源光学系统、冷却装置，冷却装置中设有中和器、放电室的上部设有离子源光学系统，放电室的顶部固定有冷却装置，其特征在于所述冷却装置的一侧设有直流电机，冷却装置的中间设有离子源通孔，并且冷却装置的顶部与底部分别设有顶部隔离金属板与底部隔离金属板，对应的，顶部隔离金属板与底部隔离金属板也分别设有离子源出孔和进孔，顶部隔离金属板的上端设有阻挡机构，底部隔离金属板的底部与放电室相连接。它能对光学元件表面的精确修形，能够根据具体需要，通过驱动阻挡机构，限制离子束

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117116735 A (43)申请公布日 2023.11.24 (21)申请号 202311149316.2 (22)申请日 2023.09.07 (71)申请人中国兵器科学研究院宁波分院地址