一种用于制备金属凸点的双层正性光刻胶剥离方法.pdfVIP

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2023-11-25 发布于四川
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一种用于制备金属凸点的双层正性光刻胶剥离方法.pdf

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本发明公开了一种用于制备金属凸点的双层正性光刻胶剥离方法：S1，外延片清洗；S2，在外延片上旋涂底层的第一类型正性光刻胶；S3，软烘，对第一类型正性光刻胶进行固化；S4，在第一类型正性光刻胶表面旋涂顶层的第二类型正性光刻胶；S5，软烘，对第二类型正性光刻胶进行固化；S6，曝光，使用光刻机对双层光刻胶进行曝光；S7，后烘焙；S8，显影，使用碱性显影液对双层光刻胶进行显影；S9，金属沉积，使用金属沉积设备沉积金属膜；S10，使用光刻胶剥离液对双层光刻胶进行剥离；S11，在外延片表面制备得到金属凸点。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117111420 A (43)申请公布日 2023.11.24 (21)申请号 202311099718.6 (22)申请日 2023.08.30 (71)申请人南昌大学