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- 2023-11-25 发布于四川
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本发明提供一种光罩制程偏差的监控方法及监控系统，采用光学邻近校正模型确定监控图案；将所述监控图案排版于光罩版图上对应晶圆切割道的位置，并根据所述光罩版图制作光罩；测量所述光罩中的监控图案的关键尺寸，计算所述监控图案的关键尺寸偏差并判断所述光罩的制程偏差。通过设计光罩监控图案，可以监测监控图案判断光罩的制程偏差，这种监测能够确保芯片制造的可重复性和稳定性，并且能够为芯片设计和制造提供更加精确的光罩参考数据。本发明提供的方法可以适用于不同的光罩厂，能够在各种工艺条件下监测光罩制程的偏差情况，适用性广
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117111398 A
(43)申请公布日 2023.11.24
(21)申请号 202311368269.0
(22)申请日 2023.10.23
(71)申请人 粤芯半导体技术股份有限公司
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