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- 2023-11-29 发布于四川
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本发明提供一种在该基片上层叠地形成多个图案的基片处理方法、计算机存储介质和基片处理系统。对于层叠在基片上的两层以上的图案的相关性,基于上层图案的EPE、下层图案的EPE和两层图案的套刻精度,来计算作为该两层图案间的错位量的IPFE。在计算出的IPFE超过规定的阈值(IPFE预测值)的情况下,修正规定处理中的处理条件,使得该IPFE小于规定的阈值。由此,在基片上层叠地形成多个图案时,能够使该多个图案适当化。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 109390219 A
(43)申请公布日
2019.02.26
(21)申请号 20181
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