一种光刻机工件台振动性能与成像质量的分析方法.pdfVIP

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  • 2023-12-02 发布于四川
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一种光刻机工件台振动性能与成像质量的分析方法.pdf

本发明提供了一种光刻机工件台振动性能与成像质量的分析方法,通过在设计的测试掩模上形成与光刻机极限运动和分辨率相关的特征测试图形,进行光刻和显影成像,结合建立的关系模型,从而定量反馈待分析光刻机工件台振动性能及待分析光刻机极限成像能力,为不同光刻机的稳定运行和量产质量提供定量分析指标。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117148686 A (43)申请公布日 2023.12.01 (21)申请号 202311125704.7 (22)申请日 2023.09.01 (71)申请人 中国科学院微电子研究所 地址 1

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