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- 2023-12-02 发布于四川
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一种光刻设备包括,照射系统、投影系统、温度敏感物体、和温度传感器,所述温度传感器包括检测器和波导装置,所述波导装置热耦合到所述温度敏感物体并且包括输入端、下游端、以及第一散射特征和第二散射特征。所述照射系统照射图案形成装置的图案。所述投影系统将所述图案的图像投影到衬底上。基于温度,所述第一散射特征反射第一光谱。未被所述第一散射特征反射的辐射被允许向下游移动。基于温度,所述第二散射特征反射不同于所述第一光谱的第二光谱。未被所述第二散射特征反射的辐射被允许向下游移动。所述检测器被布置为从所述输入端接
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117157587 A
(43)申请公布日 2023.12.01
(21)申请号 202280027460.6 L ·J ·A ·凡鲍克霍文
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