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本发明公开了基于单次测量的薄膜参数计算方法、干涉测量装置和系统，属于微纳结构探测领域。本发明只需单次测量，就可以同时获得薄膜厚度分布及表面形貌，避免多次测量带来的测量误差，更适用于实际工业环境。对每个扫描点执行上述计算方法，得到每个扫描点的光程差信息，将其组合得到薄膜样品的表面形貌，由于薄膜厚度计算中引入补偿量函数，使一微米以下的薄膜表面形貌准确度更高。本发明适用于使用Linnik型干涉结构或Mirau型干涉结构，还适用于使用宽光谱光源或扫频光源，可根据工业场景灵活调整。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117146717 A
(43)申请公布日 2023.12.01
(21)申请号 202311047561.2
(22)申请日 2023.08.17
(71)申请人 华中科技大学
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