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设备介绍

电子束蒸发台

用途

主要用于蒸发：Ti、Al、Ni、Cr、Ag、Ge等普通金属薄膜，

Pd、Pt、Au等贵重金属，

蒸发速率0.1A/s-10A/s可调，部分金属最大蒸发厚度可至1000nm。

一次可蒸镀两寸片74片，2寸片小架子4片，

四寸片24片，

六寸片8片，

向下尺寸兼容，

薄膜不均匀性≤±5%。

主要技术指标

蒸发速率0.1A/s-20A/s，

预蒸发功率10%-45%，

蒸发功率0-60%，

蒸发厚度：普通金属（Ni、Al、Ti）5nm-2000nm，

贵重金属（Au、AuGe）5nm-500nm；

工作真空：5E-4Pa，温度：20-300℃。

蒸镀Ni工艺，大架子速率限制1A/s，单次蒸发厚度限制在100nm以内。

小架子速率限制在2A/s，厚度限制在300nm以内。

蒸镀Pt带胶lift-off工艺，厚度限制100nm以内。