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2023-12-06 发布于四川
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一种晶圆蚀刻工艺的流量控制方法及系统.pdf

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本公开提供了一种晶圆蚀刻工艺的流量控制方法及系统，涉及晶圆蚀刻技术领域，该方法包括：获取晶圆蚀刻概念图；生成待蚀刻区域坐标集；标定蚀刻速率信息；获取蚀刻剂滴头的单滴蚀刻剂质量；生成单位流量平面蚀刻预测范围；生成单位流量斜面蚀刻预测范围；生成蚀刻位置时序信息和蚀刻剂滴数时序信息；根据所述蚀刻位置时序信息和所述蚀刻剂滴数时序信息，控制所述蚀刻剂滴头对待蚀刻晶圆进行蚀刻，解决了现有技术中存在由于无法实现预先性的蚀刻状态预测，导致无法进行自适应的蚀刻参数调整的技术问题，由此通过对晶圆平面及斜面进行蚀刻剂

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117174621A

(43)申请公布日2023.12.05

(21)申请号202311420570.1

(22)申请日2023.10.30

(71)申请人江苏卓玉智能科技有限公司

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