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设备介绍：等离子体去胶机.pptxVIP

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  • 2023-12-07 发布于陕西
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设备介绍：等离子体去胶机.pptx

    设备介绍

    等离子体去胶机

    用途

    通过氧原子与光刻胶在等离子体环境中发生反应

    生成挥发性的一氧化碳和二氧化碳等生成物，

    这些生成物容易被真空系统抽走，

    从而实现去除光刻胶的目的。

    主要技术指标

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