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本发明提供一种对衬底进行加工的方法可包括:在衬底上提供表面特征,表面特征包括特征形状、特征位置及在衬底平面内沿第一方向的尺寸;在衬底特征上沉积包含层材料的层;以及在离子曝光中以入射角度朝衬底射出离子,入射角度相对于衬底平面的垂线形成非零角度,其中离子曝光包含离子及反应性不带电物质,离子曝光对层材料进行反应性蚀刻,其中离子撞击表面特征的第一部分且不撞击表面特征的第二部分,且其中产生改变后的表面特征,改变后的表面特征在以下中的至少一个方面不同于表面特征:沿第一方向的尺寸、特征形状或特征位置。本发明能
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN108780740A
(43)申请公布日
2018.11.09
(21)申请号20178
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