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本发明属于半导体器件的制造技术领域,涉及一种屏蔽栅功率MOSFET器件,包括有源区,有源区内包括元胞单元和虚拟元胞单元,虚拟元胞单元在第二导电类型阱区间设有第一类型沟槽,在第一类型沟槽内填充有虚拟屏蔽栅多晶硅、厚氧化层、位于虚拟屏蔽栅多晶硅上部两侧的虚拟栅极多晶硅及虚拟栅氧化层;在第一类型沟槽上依次覆盖有绝缘介质层、源极金属,源极金属通过绝缘介质层内的通孔分别与虚拟屏蔽栅多晶硅、虚拟栅极多晶硅电连接;本发明通过在有源区引入虚拟栅元胞结构,减小了栅极和源极的交叠面积,使得输入电容Ciss和米勒电容
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN109065542A
(43)申请公布日
2018.12.21
(21)申请号20181
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