原创力文档- 3
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- 2023-12-06 发布于四川
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本发明提供一种可调整磁场分布的沉积设备，包括一反应腔体、一承载盘、一靶材、一磁力装置及至少一遮蔽单元。承载盘及靶材位于反应腔体的容置空间内，其中承载盘用以承载至少一基板，且靶材的一表面面对承载盘及基板。磁力装置位于靶材的另一表面，并经由靶材在反应腔体的容置空间内形成磁场。遮蔽单元由导电材质所制成，并位于部分的磁力装置与部分的靶材之间，其中遮蔽单元用以遮蔽磁力装置产生的部分磁场，以微调容置空间内的磁场分布，并可有效提高沉积在基板表面的薄膜厚度的均匀度。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115404450A
(43)申请公布日2022.11.29
(21)申请号202110594760.X
(22)申请日2021.05.28
(71)申请人鑫天虹(厦门)科技有限公司
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