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能在抑制、减少过渡金属膜的表面粗糙度的同时高精度地进行蚀刻。对形成于样品的含过渡金属元素的过渡金属膜通过如下工序来进行蚀刻：第1工序，将样品的温度保持在100℃以下，并在过渡金属膜的表面各向同性地生成过渡金属氧化物层；第2工序，对过渡金属氧化物层提供络合气体，并使样品的温度升温到150℃以上且250℃以下的给定的温度；第3工序，将样品的温度保持在150℃以上且250℃以下，使通过络合气体与在第1工序形成的过渡金属氧化物的反应而产生的反应物升华而除去；第4工序，将样品冷却。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111771262A
(43)申请公布日
2020.10.13
(21)申请号20198
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