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碳纳米管场发射平板显示器件关键技术的研究的开题报告

一、研究背景

场发射平板显示器件是一种新型的显示技术，具有体积小、功耗低、亮度高等优点，尤其适用于纳米制造技术，因此在高端电子产品领域具有广阔的应用前景。碳纳米管是一种独特的纳米材料，具有极高的导电性和机械强度，被广泛应用于场发射平板显示器件的制造中。然而，由于碳纳米管的制造工艺复杂，制造过程中容易出现缺陷，导致场发射平板显示器件的性能下降，因此需要开展相关的关键技术研究。

二、研究目的

本研究旨在探索碳纳米管场发射平板显示器件的制造关键技术，提高其性能稳定性和可靠性，为其在高端电子产品领域的应用打下基础。

三、研究内容

（一）碳纳米管制备方法的改进

当前的碳纳米管制备方法存在成本高、工艺复杂、缺陷率高等问题，影响了场发射平板显示器件的制造。因此，需要通过改进制备方法，降低成本、提高制备效率、减小缺陷率等方面进行探讨。

（二）碳纳米管阵列结构的优化

碳纳米管的密集排列和整齐的结构是制造稳定性能场发射平板显示器件的关键。优化碳纳米管的阵列结构，减小碳纳米管之间的间隔，增加场发射效率，提高碳纳米管的阵列稳定性。

（三）场发射平板显示器件加工工艺的改进

场发射平板显示器件的加工过程中，需要进行纳米级别的加工，制造精度要求极高。因此，本研究将尝试改进场发射平板显示器件的加工工艺，提高加工精度。

（四）性能测试与分析

对制备好的碳纳米管场发射平板显示器件进行性能测试与分析，探讨其场发射效率、发射稳定性、寿命等性能参数的表现。

四、研究意义

本研究的意义在于：

（一）探究碳纳米管场发射平板显示器件的制备关键技术，提高其性能稳定性和可靠性，为其在高端电子产品领域的应用提供可靠支撑。

（二）探索碳纳米管制造技术的改进方法，降低成本、提高制备效率、减小缺陷率等方面，具有一定的技术创新价值。

（三）为纳米材料的制造打下基础，推动纳米技术的发展。