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一种真空镀膜设备.pdfVIP

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  • 2023-12-13 发布于四川
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一种真空镀膜设备.pdf

    本申请公开了一种真空镀膜设备，包括用于容置镀膜靶材的镀膜仓，所述镀膜仓设置有蒸发源；清洁仓，所述清洁仓设置有清理元件，所述清洁仓与所述镀膜仓之间设置有密封阀门；传送元件，所述传送元件能够通过处于开启状态的密封阀门在所述清洁仓与所述镀膜仓之间传送物体；抽气元件，抽气元件的抽气口与镀膜仓连通。通过设置清洁仓，在镀膜前将待镀膜的量子芯片衬底放入清洁仓内，利用清理元件对量子芯片衬底的表面进行清理，除去其表面的污染物等杂质，再利用镀膜仓在量子芯片衬底的表面镀膜，利用清理元件在镀膜前清理量子芯片衬底表面的杂

    (19)国家知识产权局

    (12)实用新型专利

    (10)授权公告号CN220166262U

    (45)授权公告日2023.12.12

    (21)申请号202321377052.1

    (22)申请日2023.05.31

    (73)专利权人本源量子计算科技（合肥）股份有

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