GB/T 43315-2023硅片流动图形缺陷的检测　腐蚀法.pdf

ICS77.040

CCSH21

中华人民共和国国家标准

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GBT433152023

硅片流动图形缺陷的检测腐蚀法

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TestmethodforflowatterndefectsinsiliconwaferEtchintechniue

pgq

2023-11-27发布2024-06-01实施

国家市场监督管理总局

发布

国家标准化管理委员会

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GBT433152023

前言

/—《:》

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GBT1.120201

起草。

。。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(/)与全国半导体设备和材料标准

SACTC203

化技术委员会材料分技术委员会(//)共同提出并归口。

SACTC203SC2

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本文件起草单位中环领先徐州半导体材料有限公司山东有研半导体材料有限公司中环领先

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半导体材料有限公司浙江海纳半导体股份有限公司厦门万明电子有限公司有色金属技术经济研究

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院有限责任公司浙江金瑞泓科技股份有限公司麦克斯电子材料股份有限公司浙江旭盛电子有限

公司。

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本文件主要起草人朱志高陈俊宏陈凤林高海棠李素青朱晓彤由佰玲吕莹潘金平张海英

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胡晓亮方丽霞陈跃骅黄景明