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本发明涉及碳化硅涂层石墨载盘加工技术领域,且公开了一种碳化硅涂层石墨载盘生产用石墨基体表面处理设备,包括箱体和箱盖,所述箱体内设有一组摆动机构,一组所述摆动机构的数量不少于两个,所述摆动机构上设有夹紧件,多个所述夹紧件高度从左往右逐渐升高,所述箱体内设有第一底板,通过设置的第一进水管将清洗剂溶液送入箱体内部,然后清洗剂溶液沿着第一底板快速流淌,再配合第一出水管将清洗剂溶液抽出,如此可以使得清洗剂溶液循环流动对石墨基体进行冲洗,同时清洗剂溶液沿着第一底板阶梯面由高处向低处流动,在重力作用下,清洗剂
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117225784A
(43)申请公布日2023.12.15
(21)申请号202311192044.4
(22)申请日2023.09.15
(71)申请人昊石新材料科技南
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