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本发明公开了一种气相外延装置，包括原料舟，所述原料舟包括原料舟主体，所述原料舟主体设有用于容纳液体源材料的原料舟腔；所述原料舟还包括连通于所述原料舟腔的侧通道，所述液体源材料能够从所述原料舟腔中流入所述侧通道内，且所述侧通道内液体源材料的液面高度与所述原料舟腔内的液面高度保持一致；所述侧通道内设有液面高度量测器。通过侧通道内的液面高度量测器测量侧通道中液体源材料的液面高度，以监测原料舟腔中液体源材料的液面高度，以此作为源材料供给量的调整依据，从而确保源材料供给的均匀稳定性，进而确保晶体的生长质量
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117230532A
(43)申请公布日2023.12.15
(21)申请号202311198390.3
(22)申请日2023.09.15
(71)申请人东莞市中镓半导体科技有限公司
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