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本发明提供了一种钛铝腐蚀底层钛超出铝边缘的腐蚀方法及器件,属于半导体制造技术领域。其中,方法包括:在晶圆表面依次沉积金属钛层和金属铝层;在待腐蚀区域表面上旋涂光刻胶,并进行光刻处理,形成具有预设形状窗口的光刻胶膜;通过预设形状窗口对金属铝层和金属钛层依次进行腐蚀,然后根据刻蚀液对膜的腐蚀选择性特点,再进行钛铝金属膜腐蚀使铝层边缘缩进,去除光刻胶膜,从而实现底层钛超出铝边缘的腐蚀形貌。本发明通过二次铝层腐蚀的方法,既可以去除铝屋檐结构,又可以实现钛金属层超出铝层边缘的独特形貌,使金属电极接触更加充
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117253789A
(43)申请公布日2023.12.19
(21)申请号202311239641.8H01L21/28(2006.01)
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