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实施方式的半导体存储装置具备:第1字线,连接于第1存储单元;第2字线,连接于第2存储单元;第3字线,连接于第3存储单元;第4字线,连接于第4存储单元;第1晶体管,电连接于第1字线,具有第1栅极;第2晶体管,电连接于第2字线,具有第2栅极;第3晶体管,电连接于第3字线,具有第3栅极;及第4晶体管,电连接于第4字线,具有第4栅极。第1栅极包含在第1导电层中,第2栅极包含在与第1导电层分开配置的第2导电层中,第3栅极与第4栅极包含在一体连续的第3导电层中。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117255561A
(43)申请公布日2023.12.19
(21)申请号202310134898.0H10B43/20(2023.01)
(22)申请日2023.02.
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