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溅射装置及使用该溅射装置的溅射方法.pdfVIP

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  • 2023-12-23 发布于四川
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溅射装置及使用该溅射装置的溅射方法.pdf

    本发明涉及一种溅射装置及使用该溅射装置的溅射方法。溅射装置包括基板支架、第一对置靶单元、第二对置靶单元和电源单元。第一对置靶单元包括第一靶和至少一个第一磁性部，并操作来在邻近第一靶的第一等离子体区域中形成磁场。第二对置靶单元包括第二靶和至少一个第二磁性部，并操作来在邻近第二靶的第二等离子体区域中形成磁场。电源单元将第一电力电压提供到第一靶和第二靶。控制阳极在第二方向上面对基板支架，在第一对置靶单元与第二对置靶单元之间具有第一等离子体区域和第二等离子体区域，控制阳极接收大于第一电力电压的控制电压。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN107435135A

    (43)申请公布日

    2017.12.05

    (21)申请号20171

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