原创力文档- 13
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- 2023-12-23 发布于四川
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本发明公开了一种双面光刻对位方法及双面光刻系统，其中方法通过获取预设目标点的第一坐标信息和第二坐标信息后，根据第一坐标信息及第二坐标信息获得坐标转换关系式，再通过获得预设图案阵列的A面曝光坐标矩阵后，根据坐标转换关系式得到B面曝光转换坐标矩阵，进而根据得到的B面曝光转换坐标矩阵与获取的B面理论曝光坐标矩阵计算获得曝光修正矩阵；因此，通过曝光修正矩阵即可实现在进行双面光刻时，仅需要通过单一对位相机获得的A面曝光坐标矩阵并结合曝光修正矩阵，从而得到B面理论曝光坐标矩阵，其解决了相关技术中双面光光刻系
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117270337A
(43)申请公布日2023.12.22
(21)申请号202311532096.1
(22)申请日2023.11.17
(71)申请人广东科视光学技术股份有限公司
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