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本发明公开了一种反极性发光二极管的制备方法,包括以下步骤:一种反极性发光二极管的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:提供一GaAs衬底,在所述GaAs衬底上依次生长缓冲层、腐蚀截止层、N型半导体层、多量子阱层、P侧波导层、P型限制层、过渡层和P型欧姆接触层,得到发光二极管外延片;对所述发光二极管外延片进行反极性处理,得到反极性发光二极管。本发明的制备方法能够提高反极性发光二极管的电流扩展性能、发光功率及大功率下的可靠性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117276427A
(43)申请公布日2023.12.22
(21)申请号202311390571.6H01L33/02(2010.01)
(22)申请日2023.10.
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