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一种光刻机MLA透镜的对准调节系统.pdfVIP

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  • 2023-12-27 发布于四川
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一种光刻机MLA透镜的对准调节系统.pdf

    本发明公开了一种光刻机MLA透镜的对准调节系统，涉及光刻机像差调节技术领域，包括有可接收光学系统的曝光光源的DMD反射单元以及可接收DMD反射单元所射出的光束的MLA透镜单元，还包括有可接收MLA透镜单元所折射出的光束的曝光焦面，所述DMD反射单元所射出的光束在MLA透镜单元上第一次成像，经过所述MLA透镜单元再次射出后位于曝光焦面表面二次成像。本发明可驱使棱镜单元调节与横向水平面的夹角度数，以达到折射、矫正光束的目的，提高了由DMD反射单元所射出的多个独立光束与MLA透镜单元内部的多个微透镜相

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117289553A

    (43)申请公布日2023.12.26

    (21)申请号202311098633.6

    (22)申请日2023.08.29

    (71)申请人安徽国芯光刻技术有限公司

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