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- 2023-12-30 发布于四川
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本发明涉及半导体材料技术领域,具体涉及液相法碳化硅长晶过程消除气泡包裹的方法。长晶依托于长晶装置,包括炉体,炉体内设有用于盛放长晶原料的石墨坩埚,石墨坩埚上方设有籽晶杆,一籽晶托,设于籽晶杆一端,籽晶托上设有碳化硅籽晶,加热装置,用于提供晶体生长所需温度,抽真空装置,用于提供晶体生长所需真空环境;消除气泡包裹的方法包括如下步骤:a装料、b化料、c回熔、d提拉、e旋转、f再回熔、g长晶、h待晶体生长完成,进行冷却,冷却后取下晶体,完成长晶。本发明提供的方法,长晶过程中消除籽晶表面气泡,使籽晶表面光
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117305987A
(43)申请公布日2023.12.29
(21)申请号202311611073.XC30B15/00(2006.01)
(22)申请日2023.11.
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