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本申请提供了一种平面适形曲面的方法及上颚贴片。本申请的平面适形曲面的方法能够利用单一连续的平面来适形目标曲面。也就是说能够在保证单一平面的连续性的情况下适形目标曲面,由此有利于将电子技术(例如电极)应用于具有拟合曲面的产品。本申请的上颚贴片可以具有采用平面适形曲面的方法形成的拟合曲面,使得该上颚贴片具有与目标体的上颚的曲面拟合的形状。这样,由于能够通过单一连续的平面来适形曲面,因而可以在上颚贴片的处于平面形态的平面中间体上就设置例如电极等电子器件。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117316529A
(43)申请公布日2023.12.29
(21)申请号202311251413.2
(22)申请日2023.09.26
(71)申请人清华大学
地址100084
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