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                本发明涉及一种半导体铁镍合金减薄蚀刻液,按照重量份计算,包括如下组分:有机酸30‑70份;无机酸10‑20份;螯合剂0.5‑3份;表面活性剂1‑2份;超纯水30‑50份。本发明还提供了该蚀刻液的制备方法和使用方法。本发明采用的螯合剂三乙醇胺中含有亲电基团和亲核基团可与铁离子形成配合物,加上草酸螯合铁离子,显著提升蚀刻性能,三乙醇胺可以有效防止pH过小造成蚀刻速率变快。本发明中醋酸配合草酸可以更温合蚀刻、螯合铁离子,抑制溶解铁离子对金属表面的损伤,保持稳定、可控的蚀刻速率,防止蚀刻反应剧烈而造成基
                    (19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117328065A
(43)申请公布日2024.01.02
(21)申请号202311237842.4
(22)申请日2023.09.25
(71)申请人浙江奥首材料科技有限公司
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