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阵列基板及其制造方法、显示装置.pdfVIP

阵列基板及其制造方法、显示装置.pdf

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    本申请提供一种阵列基板及其制造方法、显示装置，制造方法包括如下步骤：于基板上形成第一图案化导电层，第一图案化导电层包括栅极；形成覆盖第一图案化导电层以及基板的绝缘层；于绝缘层远离基板的一侧形成整面的半导体层；于半导体层远离基板的一侧形成整面的第二导电层，采用构图工艺对半导体层以及第二导电层进行图案化，得有源层、源漏电极、第一导电电极、第一导电构件，有源层对应栅极设置，源漏电极电性连接有源层；形成覆盖源漏电极、有源层、绝缘层且使第一导电电极以及第一导电构件暴露的图案化遮光绝缘层，得阵列基板。相对于

    (19)中华人民共和国国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN111584512A

    (43)申请公布日

    2020.08.25

    (21)申请号20201

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