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贝瑞光电——中国超光滑表面光学元件组件品牌企业
中国最早开展超光滑抛光技术研究、超光滑表面光学元件研制生产的民营企业
贝瑞光电2001年成立于成都高新区
21年专注超精密光学元件、组件研制生产
研制、批量生产表面粗糙度0.1nm领先性超光
滑表面光学元件、组件
近年研制生产特种光电探测仪器系统
建立了超光滑表面元件质量检测控制体系
建立了体系化的先进检测平台
拥有Zygo粗糙度轮廓仪、Zygo激光干涉仪、分光光度计、双光管测角仪等先进检测分析仪器
半导体领域——光刻机超精密光学元件
EUV、DUV光刻机——光源：需极限水平的超光滑表面光学反射镜
物镜：需极限水平的超光滑表面光学元件组件
通快集团以其领先水平的20kWCO激光器，成为
2
ASMLEUV光刻机激光器泵浦源唯一供应商
贝瑞可支持EUV、DUV光刻机光源所需超精密光学
元件组件研制——国产自主
贝瑞参与了XXX专项光刻机物镜所需超精密光学元
件的研制，并与相关机构建立了合作
可为国内光刻机制造商，研制生产光刻机物镜所需
超精密光学元件组件
贝瑞光电较长时间与相关领袖企业机构合作，成功研制了半导体光刻机所需部分超精密光学元件组件
EUV光刻机——光源：需超光滑表面光学反射镜
EUV光刻机光源采用高功率CO2激光器
EUV光刻机光源采用高功率CO2激光器的激光轰击锡液滴产生极紫外光
超光滑表面光学反射镜是其光源所需核心元件
高功率激光器超精密单晶硅反射镜
元件表面粗糙度0.07nm，居国际领先水平
应用于世界高功率激光器领导企业万瓦级高功率激光器
用作高功率激光器核心光路的关键反射镜，支持激光器高功率和高可靠性性能
产品被评为国家重点新产品
高功率激光器超精密单晶硅反射镜
10万件级产品经客户检测：98%的产品表面粗糙度在0.07-0.13nm范围，一致性极高
客户检测：产品表面粗糙度RMS0.07nm客户CPK报告：产品一致性极高
光掩模版——光掩模版超光滑基片
我国半导体行业急需光掩膜版超光滑基片，以研制生产高精度光掩膜版
半导体所用高精度光掩膜版、及其基片材料、光掩膜版超光滑基片，被日韩垄断
我国半导体技术链、产品链、产业链急需高精度光掩膜版、光掩膜版超光滑基片实现国产自主
贝瑞光电以独特的超光滑抛光技术支持开展光掩模版超光滑基片研制
大科学装置领域——超光滑表面光学元件、组件
贝瑞参与承担了国际国内多个大科学装置超光滑表面光学元件组件研制生产任务
为相关机构研制的超光滑熔石英元件、超光滑硅元件组件：表面粗糙度（RMS)小于0.2nm；光
洁度5-0，面型（PV）1/20λ，居国际国内先进水平
神光3工程装置同步辐射光源装置引力波
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