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本申请涉及一种金字塔绒面的制作方法，所述金字塔绒面的制作方法包括如下步骤：S1、准备硅片；S2、对硅片进行预处理以形成均匀排列的成核点；S3、对硅片进行湿法金字塔刻蚀。即仅通过增加一道预处理工艺，便可使得通过湿法金字塔刻蚀形成的金字塔结构均匀排列，大小不统一，进而使得金字塔结构反射率更低，制作的电池片短路电流更高，转化效率更高。此外，对硅片进行预处理，使得硅片表面缺陷均匀分布，进而实现成核时间的相对统一以及成核位置的确定，极大的缩短了成核过程的工艺时间，提高量产性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117423759A
(43)申请公布日2024.01.19
(21)申请号202311388732.8C30B29/06(2006.01)
(22)申请日2023.10.
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