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一种自聚焦透镜阵列及其制备方法.pdf

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    本发明公开了一种自聚焦透镜阵列及其制备方法，涉及光学元件技术领域，本发明的自聚焦透镜阵列的制备方法，包括提供基板；采用光刻工艺刻蚀基板形成排列设置有多个通孔的模板，相邻两个通孔之间相切连接；在通孔内注入熔融态的玻璃基材，玻璃基材完全填充通孔；对玻璃基材降温固化后由通孔中脱模，形成玻璃阵列；对玻璃阵列中的每个玻璃柱的折射率梯度化，形成自聚焦透镜阵列。本发明提供的自聚焦透镜阵列及其制备方法，能够在小尺寸的情况下提高自聚焦透镜阵列中各个自聚焦透镜几何尺寸的均匀性，从而提高小尺寸的自聚焦透镜阵列的加工良

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117420622A

    (43)申请公布日2024.01.19

    (21)申请号202210811719.8

    (22)申请日2022.07.11

    (71)申请人飞秒光电科技(西安)有限公司

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